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日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

2020-07-27 14:44:31   0

日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢 名称台式表面处理装置型号SSP16-110概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途改善树脂表面的润湿性提高与树脂素材的胶粘剂、涂料、涂层材料的密合力各种基板材料的预处理清洗或改性金属玻璃等表面对结账台灰化、电镀进行预处理特长可简单地进行UV处理。照射尺寸为160×160

日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢 

面光源,条形光源,照明光源,线形光源,太阳光灯,离心机,水浴锅,旋转蒸发仪,加热棒,灭菌锅,粘度计,辉度计,辉度箱,电源,探知器,传感器,光源箱,对比度仪,光纤,超声波风速计

名称台式表面处理装置
型号SSP16-110
概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢
用途改善树脂表面的润湿性
提高与树脂素材的胶粘剂、涂料、涂层材料的密合力
各种基板材料的预处理
清洗或改性金属玻璃等表面
对结账台灰化、电镀进行预处理
特长可简单地进行UV处理。
照射尺寸为160×160mm,不仅可用于研究,也可作为小型生产机使用


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