日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

日本SEN台式表面处理装置SSP16-110-用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢 名称台式表面处理装置型号SSP16-110概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途改善树脂表面的润湿性提高与树脂素材的胶粘剂、涂料、涂层材料的密合力各种基板材料的预处理清洗或改性金属玻璃等表面对结账台灰化、电镀进行预处理特长可简单地进行UV处理。照射尺寸为160×160