日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢
2020-07-27 14:42:11 2日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢名称输送机型表面处理装置型号PM1103C-8概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途各种基板材料的预处理各种表面的润湿性改善特长因为是传送带型，所以可以均匀照射。传送带速度支持0.1~1m/min
日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢名称输送机型表面处理装置型号PM1103C-8概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途各种基板材料的预处理各种表面的润湿性改善特长因为是传送带型，所以可以均匀照射。传送带速度支持0.1~1m/min
