欢迎莅临北崎国际

日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

2020-07-27 14:42:11   1

日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢名称输送机型表面处理装置型号PM1103C-8概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途各种基板材料的预处理各种表面的润湿性改善特长因为是传送带型,所以可以均匀照射。传送带速度支持0.1~1m/min

日本SEN输送机型表面处理装置PM1103C-8 用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢

面光源,条形光源,照明光源,线形光源,太阳光灯,离心机,水浴锅,旋转蒸发仪,加热棒,灭菌锅,粘度计,辉度计,辉度箱,电源,探知器,传感器,光源箱,对比度仪,光纤,超声波风速计

名称输送机型表面处理装置
型号PM1103C-8
概要用185nm和254nm的光能去除纳米级有机物的污垢
用途各种基板材料的预处理
各种表面的润湿性改善
特长因为是传送带型,所以可以均匀照射。
传送带速度支持0.1~1m/min


热门推荐