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日本SEN台式表面处理装置XPL1504-用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢

日本SEN台式表面处理装置XPL1504-用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢

2020-07-27 14:38:48   1

日本SEN台式表面处理装置XPL1504-用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢名称台式表面处理装置型号XPL1504概要用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢用途光学玻璃、基板等表面冲洗难粘性塑料的粘接改善特长可轻松进行172nm的照射。灯可以安装1~4盏

日本SEN台式表面处理装置XPL1504-用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢

面光源,条形光源,照明光源,线形光源,太阳光灯,离心机,水浴锅,旋转蒸发仪,加热棒,灭菌锅,粘度计,辉度计,辉度箱,电源,探知器,传感器,光源箱,对比度仪,光纤,超声波风速计

名称台式表面处理装置
型号XPL1504
概要用172nm的光能去除纳米级有机物的污垢
用途光学玻璃、基板等表面冲洗
难粘性塑料的粘接改善
特长可轻松进行172nm的照射。
灯可以安装1~4盏


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